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产品名称:4路质子混气管式PECVD系统
为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD), 内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命

实验机理                             

  • 辉光放电等离子体中:电子密度高109-1012cm3

  • 电子气体温度比普通气体分子温度高出10-100

产品特点

  • 虽环境温度在100-300℃,但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解,离解和离化,从而大大提高了反应物的活性。因此,这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表面上,发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜。

  • 科晶公司提供定制的薄膜材料的实验室质量可靠、价格合理的紧凑型PECVD系统。

  • 下图显示的是PECVD法用500W交流等离子体与OTF1200X507通道精密质量流量计和高真空系统气体组成

  OTF-1200X开启式管式炉,工作温度高达1200℃      化学气相沉积系统的组成图

开启式管式炉

  • 工作温度:1200℃

  • 炉管尺寸:Φ50Φ60Φ80都可用

  • 温度控制器:30段高精度数字可编程温度控制器

  • 加热区长度:440mm

  • 恒温区长度:150mm

  • 功率:AC 220V 4KW

等离子射频电源                       

  • 输出功率:50-500W最大可调±1%

  • RF频率: 13.56MHz,稳定性±0.005%

  • 噪声:≤55DB

  • 冷却:风冷

  • 输入功率:1KW  AC 220V

真空泵和阀门                          

  • 采用KF25系列波纹管和精密针阀连接

  • 真空度可达10-3torr

  • 本公司进口的防腐型数字式真空显示计,其测量范围为3.8x10-5 1125Torr.不需因测量气体种类不同而需要系数转换。

质量流量计

  • 内部装有高精度数字显示质量流量计可准确的控制气体流量

  • 气体流量范围为0-200 误差为0.02%

  • 一个气体混气罐的底部安装了液体释放阀

  • 不锈钢针阀安装在左侧可手动控制混合气体输入

  • 进气口:采用国际标准双卡套接头

细节图展示


外形尺寸

  • 炉体:550*380*520mm

  • 供气及真空系统:600*600*597mm

  • 净重:120KG

质保期

一年质保期相关耗材除外,如加热元件,密封圈等易耗件

 

 

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脚注信息

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